ORGANO 高品質水質超純水系統 Puric-ωⅡ UP-0120ω-000

Puric 超高純水系統｜適用超微量分析與半導體清洗的高階超純水設備

Puric 超高純水系統專為對水質要求極致嚴格的應用設計，特別適合用於超微量分析、半導體晶圓清洗、先進材料科學與精密檢測領域。本機型結合高性能過濾系統與污染防護技術，可穩定產出極高純度的水質，並支援選配濾芯進一步去除痕量金屬、硼元素與細顆粒。

🔍 產品特徵亮點

• 極高水質純度：電阻率達 18.2MΩ·cm，TOC ≤1ppb，二氧化矽 ≦50ppt，硼 ≦1ppt，金屬含量 ≦0.01ppt，50nm 級微粒 ≦1個/mL。

• 可擴充過濾配置：搭配專用墨盒可針對特定元素如金屬、硼與細顆粒進行強化去除。

• 內建 60L 純水儲存槽：穩定供應純水，滿足實驗或製程的連續需求。

• 無汞 UV 殺菌燈設計：環保安全，降低 TOC，防止微生物污染。

• 高性能採水器：具備多模式精準取水控制，使用靈活便利。

• 徹底防污染設計：防止逆污染與交叉污染，確保水質長期穩定。

⚙️ 技術規格總覽

📌 推薦應用領域：

• 超微量分析（trace analysis）

• 半導體與微電子製程

• 光電/顯示器產線清洗

• ICP-MS、LC-MS/MS 分析用水

• 實驗室無機元素測定前處理

可達到業界最高水質

• TOC≦1ppb、金屬≦0.01ppt、二氧化矽≦50ppt、硼≦1ppt、細顆粒（50nm）≦1/mL
• 採用半導體級離子交換樹脂，
  徹底去除離子和微粒。
• 實施超純水廠處理流程，確保高純度水的穩定供應

*以上結果由我司分析部門評估。選配濾芯，適用於金屬、硼及細小顆粒。